4月27日消息，据报道，中国台湾智慧财产及商业法院针对台积电2nm制程机密泄密案作出一审判决。
案件涉及四名台积电前员工、现职员工，以及日本半导体设备商TEL（东京电子）和该公司的一名女主管。
根据法院查明，陈力铭跳槽至TEL后，多次勾结仍在台积电任职的工程师吴秉骏、戈一平与陈韦杰，通过远程联网或借用账号登入台积电数据库，以手机翻拍先进制程机密图档。
陈力铭因坦承犯行并供出共犯、取得台积电谅解，获刑10年，吴秉骏与戈一平分别被判3年和2年。
陈韦杰情节最为严重，其借用不知情同事账号，从台南厂区窃取了台积电从纳米迈向埃米时代的14埃米（1.4nm）最先进制程机密，且未获台积电谅解，遭重判6年。
涉案的TEL公司被判处罚金新台币1.5亿元（约合人民币3256万元），缓刑3年，但须向台积电支付民事赔偿新台币1亿元及罚金新台币5000万元。
此外，TEL高阶主管卢怡尹在案发后删除陈力铭存放于云端的机密图档，涉嫌湮灭证据，被判有期徒刑10月、缓刑3年。
